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高/低折射率光学涂层材料
高/低折射率光学涂层材料
产品介绍
高折射率材料RI 1.5-2.0
适配纳米压印制程
低折射率材料RI 1.1-1.5
作为抗反射涂层，包覆层，间隙填充使用
特性
1.高折射率材料针对纳米压印制程（NIL）所设计，折射率可选性丰富. 可提供旋涂以及喷墨打印两种涂布工艺的产品给客户选择使用。喷墨打印可实现低残胶
2.低折射率按材料不含添加粒子，其优异的光学特性，具有无散射的高穿透率和低雾度
3.提供配套增粘剂
4.提供配套高折射率边缘消光油墨
应用
AR/VR/MR设备-光波导
3D传感器，TOF-衍射光学器件(DOE）
使用纳米压印制程（NIL）的器件
沪公网安备 31010402009247号
